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华海清科获02重大专项支持

2015-12-14

 

天津华海清科机电科技有限公司是清华控股和天津市政府为推动清华大学化学机械抛光(CMP)技术和设备的产业化、填补该领域国内空白而成立的有限责任公司。

11月18日,华海清科作为联合单位参与的02专项项目“28-14nm抛光设备及工艺、配套材料产业化”正式获批。该项目是国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(02专项)的子项目,项目执行期为2015~2018年,将研发300mm晶圆28-14nm“干进干出”CMP整机设备及结合配套材料的成套工艺,并实现其产业化,预计产品性能指标将达到国际先进水平。

 

此外,华海清科近期在CMP技术的产业化工作方面也取得了很大进展。公司生产的国内首台12英寸化学机械抛光设备——Universal-300抛光机8月份进入中芯国际,并用于大生产线wafer reclaim(硅片再制造)生产,目前各项指标稳定,正在进行商务订单方面的努力。同时,16年将进入无锡华进半导体封装先导技术研发中心有限公司的Universal-300 plus型抛光机也已开始安装调试。11月18日,华进公司的技术总监和工程师到华海清科进行了为期一天的阶段性技术考察,对目前的进展比较满意,也对未来与华海清科合作将Universal-300 plus抛光机用于华进的TSV(硅通孔)抛光充满信心。